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2010年等离子工艺技术研讨会
2011-05-31
  以应用为指引的学术研讨会"等离子体工艺技术” 在2010年11月16日 在柏林SENTECH新办公楼举行.
  研发领域的专家展示了最新的刻蚀和沉积技术,并讲解了他们在各个样品上的应用。进一步,SENTECH员工,对30名参与者讲解了技术解决方案,报告了ICP-RIE、RIE、PECVD方面新的进展。发言者包括: Philip Moser from TU Berlin, Mohammed Aid Mansur Al-Suleimann from TU Braunschweig, Dr. Franz Müller from PTB Braunschweig and Robert Zierold from University Hamburg.
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