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天津11选5股票代码:002819

股票代码

SZ002819

400-650-5566
SENTECH SI500PPD 平行平板式等离子增强PECVD沉积设备
产品名称:
平行平板式等离子增强PECVD沉积设备
产品型号:
SI500PPD
厂商名称:
SENTECH
商品描述:
PECVD等离子沉积设备,预真空室,最大200mm晶圆,衬底温度:室温~350℃,针对低应力薄膜可选配低混频,TEOS 源或其他液态源,干泵单元
Process flexibility工艺灵活
SI500PPD适用于室温至350°C范围内SiO2, SiNx, SiOxNy a-Si和薄膜沉积标准工艺。

Vacuum loadlock预真空室
SI 500 PPD 具有真空预装片系统、干泵来实现无油、高产能和高洁净度沉积工艺。
SENTECH control software SENTECH控制软件
控制软件包括模拟用户界面,参数窗口,工艺程序编辑器,数据记录和用户管理等模块。

SI500 PPD是PECVD制备介质膜、a-Si SiC和其他薄膜的典型设备,配备有平板电容耦合等离子源、预真空室、可控温电极、可选择的低混频,全方位控制无油真空系统,采用远程现场总线技术的SENTECH控制软件,以及用户友好的操作界面来实现操作。
SI500 PPD可以进行最大200mm的晶圆片刻蚀。配有单片预真空腔室,即保证了工艺稳定性,又可以使工艺灵活切换。
SI500PPD PECVD机台的适用于室温至350℃条件下沉积SiO2, SiNx, SiONx, 和a-Si薄膜,也可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料。
SI500 PPD 尤其适用于沉积刻蚀掩膜用介质膜、薄膜和介电膜的沉积。
SENTECH面向高灵活性和高产能刻蚀和沉积系统提供各种级别的自动化装置,从真空装片系统到最大6端口的工艺腔室装置。SI500 PPD同样可以作为多腔室配置中的工艺模块。
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